什么是離子鍍

　　離子鍍：蒸發物質的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱為離子鍍。這種技術是D.麥托克斯于1963年提出的。

　　離子鍍是真空蒸發與陰極濺射技術的結合。一種離子鍍系統,將基片臺作為陰極，外殼作陽極，充入惰性氣體(如氬)以產生輝光放電。從蒸發源蒸發的分子通過等離子區時發生電離。正離子被基片臺負電壓加速打到基片表面。未電離的中性原子(約占蒸發料的95%)也沉積在基片或真空室壁表面。電場對離化的蒸氣分子的加速作用(離子能量約幾百～幾千電子伏)和氬離子對基片的濺射清洗作用，使膜層附著強度大大提高。

　　離子鍍工藝綜合了蒸發(高沉積速率)與濺射(良好的膜層附著力)工藝的特點，并有很好的繞射性，可為形狀復雜的工件鍍膜。