什么是真空鍍膜設備呢

　　真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。

　　其主要思路是分成蒸發和濺射兩種，需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材，基片與靶材同在真空腔中。蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程(散點-島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。

　　如果是對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經歷成膜過程，最終形成薄膜。

　　真空鍍膜設備每完成200個鍍膜程序以上，應清潔工作室一次，可以用燒堿(NaOH)飽和溶液反復真空鍍膜設備擦洗真空室內壁，( 注意人體皮膚不可以直接接觸燒堿溶液，以免灼傷)目的是使鍍上去的膜料鋁(AL)與NaOH發生反應，反應后膜層脫落，并釋放出氫氣，再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽閥內的污垢。